emsp;所以很多东西，不是有钱就能做的。
包括眼前的这台S17原型机，其他企业想要做什么难度可是相当大……除非只是单纯搞个设计组装。
这个S17原型机，包括已经上市销售的S16系列手机，某种程度上来说就是代表着当代地球最顶级的技术。
虽然它只需要几千块到一万出头的价格，看似只是个便宜的民用消费品，但实际上的技术含量极高。
每一个子系统，每一个零部件都是代表着当下最顶级的技术水准。
如里头采用的SOC芯片S806，如里头的顶级OLED屏幕，第三代的3D人脸识别技术等等。
每一个全都是当下最顶级的技术，而每一个背后都意味着一整套的产业链，需要的是丰厚的技术以及庞大的投资。
OLED屏幕，一块小小的屏幕的背后，是一座新建的屏幕生产工厂，光是这座工厂的总投资就达到了七十多亿美元。
而S806更不用说了，这是当代最顶级的芯片，采用的可是十纳米工艺。
“智云微电子那边的十纳米工艺之前已经在二十一号厂完成了技术验证，目前虽然良率还达不到要求，但是他们一方面是进行测试，一方面也是帮我们生产一些S806芯片用来进行前期测试，所以也生产了一小批的S806芯片。”
“徐董，这就是我们的S806芯片！”
徐申学看向前方的托盘上一枚小芯片，外观上只有一些微缩印记，但是具体也看不出什么来。
所以他只能看一些报告，从这报告上来看，采用十纳米工艺设计生产的S806芯片，在性能上对比S706强了不少，整体性能预计能提升百分之三十左右。
这也是相当不容易的。
生产十纳米工艺的二十一号厂，总投资达到了六十多亿美元呢。
而十纳米工艺，也是目前智云微电子那边在现有技术条件下，采用浸润式DUV光刻机，使用利用双重曝光技术下所做到的极限了。
再往下的话，就需要通过四重曝光技术来研发等效7纳米工艺的芯片了……而这一技术的制造成本更高。
所以从芯片的制造成本来看，尤其是使用DUV浸润式光刻机的情况下，采用双重曝光技术，生产14纳米工艺的芯片才是最划算的，这也包括智云12纳米工艺，毕竟智云的十二纳米工艺其实就是他们自己的第二代十四纳米工艺。
使用十纳米工艺的话，虽然芯片性能提升了一些，但是成本提升了很多，如果不是S系列手机这种奔着极限去，各种追求领先的产品，其实都没必要采用智云等效十纳米工艺的芯片。
这也是智云半导体的一大堆各种芯片设计里，基本都是围绕着十四纳米工艺以及十二纳米工艺展开的缘故。
至于十纳米工艺的芯片，目前就只有两种，一种是S系列手机使用的S806芯片，另外一种则是用于各种车辆以及无人机平台的算力芯片EYQ4。
其他的，包括AI训练芯片，暂时都不会采用这个十纳米工艺……划不来。
目前乃至未来两年内，智云集团这边新生产或设计的AI训练芯片，包括自用的AI系列，都会采用第二代十四纳米工艺，也就是智云宣传的十二纳米工艺制造。
其他各类芯片，电脑CPU，服务器CPU，各类显卡等等也将会采用十二纳米工艺制造。
同时还有一大堆已经设计生产的芯片用的是第一代十四纳米工艺。
至于十八纳米工艺的一些产品，则是已经陆续停产，该工艺也是属于过度工艺，性价比太低了。
未来好几年内，智云集团的各类芯片，不管自用还是外销，都会采用十四纳米工艺为主，当然，这个十四纳米工艺可能会有很多种，包括第一代十四纳米工艺，第二代十四纳米工艺（十二纳米），然后还有其他的一些变种工艺，以满足不同类型的芯片的需求。
至于更先进，但是性价比太低的十纳米工艺，注定只是个过渡工艺。
智云集团的一些先进芯片，如AI训练芯片，手机SOC芯片，机载算力卡这些对工艺要求高，对算力要求高的芯片，则是都把目光面瞄向了更好的等效七纳米工艺……虽然那玩意的成本会更高，但是带来的性能提升也足够大，所以咬咬牙也能用。
这就是没有EUV光刻机的尴尬了。
如果有EUV光刻机的话，等效七纳米芯片的成本就能拉下来，同样的，等效十纳米工艺其实用EUV光刻机来生产也更方便，成本更低。
可惜，智云集团一时半会还得不到EUV光刻机。
但是庆幸的是，台积电，英特尔，四星等半导体厂商也无法得到EUV光刻机……荷兰的ASML在今年十一月份的时候，就已经正式对外宣布：受到多个子系统研发进度缓慢的影响，预定明年交货的量产型EUV光刻机，也就是可以用来进行大规模量产芯片的EUV光刻机将会进一步推迟。
他们给出的初步计划是在18年推出量产型的EUV光刻机。
但实际上，这个时间表那只是一切顺利的情况下。
而实际上不可能顺利的，智云集团那边睁着大眼睛盯着ASML那边呢……但凡有点什么进展，立马各种车祸就来了，供应链那边就会出现问题了。
虽然没有任何证据，也没有任何公开报道，但是该知道的人都知道是智云那群人干的。
所以ASML那边其实早早就摆烂了，EUV项目组只是维持在一个低水平推进的状态……反正卖浸润式DUV光刻机也很赚钱。
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